Adsorption von Fe(CO)5 auf Si(111)7x7-Oberflächen

Stefan Mühlbauer

ISBN 978-3-89722-924-2
96 Seiten, Erscheinungsjahr: 2002
Preis: 40.50 €

Die vorliegende Arbeit befasst sich mit den ersten Elementarschritten der Silizidbildung mittels MOCVD, nämlich der Adsorption von Fe(CO)₅ auf Si(111)7x7 Oberflächen bei Temperaturen zwischen 100K und 700K. Besondere Beachtung fand dabei die Wirkung von Silan [29] und das Verhalten des CO's, das bei der Dissoziation von Fe(Co)₅ freigesetzt wird. Dabei soll untersucht werden, ob Silan koadsobiert werden muss, um epitaktische Schichten herzustellen.

Fraglich ist nämlich, inwieweit der daraus resultierende Kohlenstoff in die β-Eisendisilizidschicht eingebaut wird und die unbefriedigende Qualität der bisher durch MOCVD erzeugten Flächen verursacht.