Arrays miniaturisierter Elektronenoptiken mittels Halbleiter- und Mikromechaniktechnologien für die parallele Elektronenstrahl-Lithographie
Harald Gross
ISBN 978-3-89722-221-2
92 pages, year of publication: 1999
price: 35.00 €
Die in der Halbleiterindustrie angestrebte Kostenreduktion
von 25-30% pro Jahr wird unter anderem durch die Verkleinerung
der herstellbaren Strukturbreiten bei der Massenproduktion ermöglicht.
Im nächsten Jahrzehnt sollen Strukturbreiten von unter 100nm
erreicht werden, die sich bis jetzt nicht mit der konventionellen
optischen Lithographie fabrizieren lassen. Deshalb werden neue
Lithographiesysteme erforscht und entwickelt. Mit Hilfe der Elektronenstrahl-Lithographie
lassen sich schon seit einigen Jahren Strukturbreiten von unter
50nm erzielen. Der größte Nachteil dieser Lithographie
bei der Massenproduktion ist jedoch der geringe Durchsatz. Abhilfe
könnte durch einen parallelen Aufbau vieler miniaturisierter
Elektronenstrahlschreiber in einem Array erreicht werden.
In dieser Arbeit wurden Wege für die Herstellung
und Justierung von Arrays elektrostatischer Blenden, Linsen und
Ablenker für miniaturisierte Elektronenstrahlschreiber aufgefunden
und die ausgezeichneten realisiert. Dabei wurden hauptsächlich
Methoden und Materialien der Halbleiter- und Mikromechaniktechnologie
eingesetzt. Anschließend wurden die elektronenoptischen
Eigenschaften einzelner Bauelemente dieser Arrays charakterisiert
und mit theoretischen Simulationen verglichen.